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工業(yè)廢氣處理設(shè)備。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過(guò)冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應(yīng)的工藝調(diào)整。 在用多孔性固體物質(zhì)處理流體混合物時(shí)，流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上，此現(xiàn)象稱為吸附。吸附處理廢氣時(shí)，吸附的對(duì)象是氣態(tài)污染物，氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質(zhì)，多孔固體物質(zhì)稱為吸附劑。固體表面吸附了吸附質(zhì)后，一部被吸附的吸附質(zhì)可從吸附劑表面脫離，此現(xiàn)附。 工業(yè)廢氣處理設(shè)備 特點(diǎn)：① 不需要高成本的化學(xué)藥劑，運(yùn)行穩(wěn)定，耐腐蝕，耐負(fù)荷沖擊能力大。② 針對(duì)特定有害氣體成份馴化適當(dāng)?shù)奈⑸?，提高單位容積的負(fù)荷率。③ 填料采用有機(jī)無(wú)機(jī)混合填料，比表面積大，孔隙率高，并可為微生物提供營(yíng)養(yǎng)，可支撐大量不同種群微生物群。④ 填料活性介質(zhì)的損失小、可減少能耗，降低運(yùn)行費(fèi)用。采用強(qiáng)化自然生物降解污染物，無(wú)二次污染物產(chǎn)生。VOC去除率高，對(duì)H2S的去除率可達(dá)99%。 PLC控制系統(tǒng)自動(dòng)運(yùn)行，無(wú)需人員管理。




越浩節(jié)能設(shè)備(大興安嶺市分公司)還擁有一支高素質(zhì)、高技術(shù)、高水準(zhǔn)的專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)，秉承“品質(zhì)優(yōu)先，客戶至上”的經(jīng)營(yíng)理念和“團(tuán)結(jié)、開拓、務(wù)實(shí)、求精”的管理機(jī)制，憑借上乘的質(zhì)量、優(yōu)良的服務(wù)和良好的信譽(yù)，和眾多企業(yè)達(dá)成良好的合作關(guān)系。不斷進(jìn)取，努力做好 無(wú)塵打磨房產(chǎn)品。



揮發(fā)性有機(jī)廢氣經(jīng)系統(tǒng)風(fēng)機(jī)推進(jìn)或者吸入RTO進(jìn)口集風(fēng)管，切換閥引導(dǎo)氣體進(jìn)入蓄熱床，氣體在經(jīng)由陶瓷蓄熱床到燃燒室的過(guò)程中被逐漸預(yù)熱，在燃燒室高溫(約800℃)氧化分解，凈化后的高溫尾氣在通過(guò)另一陶瓷蓄熱床時(shí)會(huì)將熱量留在其中，使得出口處的蓄熱床得到加熱，凈化尾氣得到降溫，使得出口溫度略高于RTO進(jìn)口溫度，通常情況下溫升高不超過(guò)50-70℃。 切換閥改變氣流進(jìn)入蓄熱床的方向，實(shí)現(xiàn)蓄熱區(qū)與放熱區(qū)的交替轉(zhuǎn)換，實(shí)現(xiàn)大化回收焚化爐內(nèi)的熱量，高熱能回收率降低了燃料的需求節(jié)省了運(yùn)行本錢。當(dāng)系統(tǒng)VOC濃度大于矜持濃度(甲苯1200mg/m3、二甲苯1100mg/m3)時(shí)，RTO即不需輔助燃料便能夠維持VOC氧化分解前提，同時(shí)可對(duì)外輸出系統(tǒng)余熱。 催化熱力燃燒工藝是涂裝行業(yè)這類廢氣成分穩(wěn)定復(fù)雜、廢氣濃度高、粉塵含量高的工況首先治理技術(shù)，其凈化效果非常理想，凈化效果比較徹底，無(wú)或很少二次污染物產(chǎn)生，若是能做到處理過(guò)程中熱量回收利用，那便可以省一筆不菲運(yùn)營(yíng)成本?；钚蕴课矫摳街会槍?duì)于那些低濃度小風(fēng)量工況項(xiàng)目，這樣從企業(yè)角度來(lái)講降低企業(yè)上環(huán)保設(shè)備的*成本，在運(yùn)營(yíng)后期相對(duì)于催化熱力燃燒來(lái)講，也比較劃算，是除了催化熱力燃燒之外，涂裝噴漆廢氣處理工藝的好選擇。




光催化是常溫深度反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機(jī)污染物完全氧化成無(wú)害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過(guò)量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當(dāng)處理含氯和含硫的有機(jī)化合物時(shí)，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對(duì)燃燒后氣體進(jìn)一步處理設(shè)備。 從理論上講，只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對(duì)特定反應(yīng)有突出優(yōu)點(diǎn)，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小，跟太陽(yáng)光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對(duì)而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。
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