沸石轉(zhuǎn)輪加催化燃燒裝置 吸附脫附催化燃燒設(shè)計(jì)原理*、用材獨(dú)特，性能穩(wěn)定，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)便，可靠，節(jié)能省力，無二次污染。設(shè)備占地面積小，重量輕。吸附床采用抽屜式結(jié)構(gòu)，裝填方便，便于更換， 自動(dòng)控制系統(tǒng)的信號(hào)檢測(cè)器設(shè)置于出氣口處，對(duì)出氣口的廢氣濃度進(jìn)行自動(dòng)檢測(cè)，并將濃度數(shù)據(jù)傳輸給PLC控制器，PLC控制器根據(jù)傳輸數(shù)據(jù)發(fā)出控制指令，控制進(jìn)氣口上的進(jìn)氣閥門和催化燃燒進(jìn)氣閥門的自動(dòng)開啟、閉合，通過對(duì)活性炭吸附層的實(shí)時(shí)脫附實(shí)現(xiàn)活性炭吸附層的連續(xù)凈化。為保證生產(chǎn)的連續(xù)運(yùn)行，設(shè)有兩套吸附脫附裝置交替使用。 針對(duì)催化燃燒廢氣特點(diǎn)，首*行分類收集，先用設(shè)備對(duì)工藝產(chǎn)生的煙氣進(jìn)行處理，在多功能塔內(nèi)對(duì)廢氣進(jìn)行噴淋吸收，廢氣除味劑、吸收液、化工廢氣除臭劑與其進(jìn)行充分反應(yīng)，對(duì)VOCs氣體進(jìn)行一定的分解處理，在末端尾氣處理器上，用有機(jī)廢氣催化劑進(jìn)行光解催化氧化反應(yīng)，對(duì)化工臭氣進(jìn)行催化裂解處理，對(duì)苯類尾氣進(jìn)行冷凝回收，整個(gè)除臭裝置工藝設(shè)計(jì)合理，廢氣治理設(shè)施運(yùn)行記錄標(biāo)明，凈化效率一直保持在99%以上。對(duì)環(huán)境的污染治理有很大的幫助！

催化燃燒廢氣處理設(shè)備。解吸后的吸收劑經(jīng)過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應(yīng)的工藝調(diào)整。 催化燃燒廢氣處理設(shè)備 根據(jù)狀態(tài)、溫度和離子密度，等離子體通?？梢苑譃楦邷氐入x子體和低溫等離子體（包子體和冷等離子體）。其中高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學(xué)平衡狀態(tài)，它主要應(yīng)用在受控?zé)岷朔磻?yīng)研究方面。而低溫等離子體則學(xué)非平衡狀態(tài)，各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti)，可達(dá)104K以上，而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300～500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。

光催化是常溫深度反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機(jī)污染物完全氧化成無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當(dāng)處理含氯和含硫的有機(jī)化合物時(shí)，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對(duì)燃燒后氣體進(jìn)一步處理設(shè)備。 從理論上講，只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對(duì)特定反應(yīng)有突出優(yōu)點(diǎn)，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對(duì)而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。