產(chǎn)品功能
  全程水處理器是針對各種循環(huán)水系統(tǒng)中普遍存在的四大問題：腐蝕、結(jié)垢、菌藻、水質(zhì)惡化而研制的綜合處理器，由單臺設(shè)備代替了需要多臺設(shè)備才能完成的處理過程，從而取代了傳統(tǒng)的處理方式。具有對水質(zhì)綜合優(yōu)化處理，防垢、防腐、殺菌、滅藻、超凈過濾功能。
工作原理
  全程綜合水處理器主要由優(yōu)質(zhì)碳鋼筒體、特殊結(jié)構(gòu)的不銹鋼網(wǎng)、高頻電磁場發(fā)生器、電暈場發(fā)生器及排污裝置等組成。通過活性鐵質(zhì)濾膜，機械過濾器變徑孔阻擋及電暈效應(yīng)場三位一體的綜合過濾體，吸附、濃縮在實際運行工況下各種水系統(tǒng)形成的硬度物質(zhì)及復(fù)合垢，降低其濃度，達到控制污垢及大部分硬度垢的目的。并通過換能器將特定頻率能量轉(zhuǎn)換給被處理的介質(zhì)——水，形成電磁極化水，使其成垢離子間的排列順序位置發(fā)生扭曲變形,當(dāng)水溫升高到一定程度時，處理的水需經(jīng)過一段時間方能恢復(fù)到原來的狀態(tài)。在此階段，成垢的機率很底,因而達到控制形成硬度垢的目的。同時器壁金屬離子受到抑制，對無垢系統(tǒng)具有防腐蝕作用。此外，電磁極化水還可有效地殺滅水中的菌類、澡類等，有效地抑制水中生物的繁殖。所以，全程綜合水處理器在系統(tǒng)正常運行狀態(tài)下，可以完成防結(jié)垢、防腐，殺菌，滅藻，超凈過濾，控制水質(zhì)的綜合功能。

1．防垢除垢 由主機產(chǎn)生電磁場和超聲波作用于水系統(tǒng)管路上，使管道內(nèi)水分子產(chǎn)生共振，把氫鍵締合的水分子團變成單個的極性，改變了水的活化性，這些極小的水分子可以滲透、包圍、溶解、去除系統(tǒng)中的老垢提高了水分子對鈣鎂離子、碳酸根離子等成垢組分的水合能力，起到阻止水垢形成的作用。同時，在電磁場和超聲波的作用下，使原有的水垢結(jié)晶逐漸變得松軟、脫落、溶解，從而達到除垢之目的。  
2．防腐防銹 氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕是水系統(tǒng)管道及設(shè)備腐蝕和生銹的主要原因，而在電磁場和超聲波的作用下，水垢得以控制和去除，溶解氧與水分子結(jié)合不易析出，從而抑制氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕的發(fā)生起到良好的防腐阻銹的作用。 
3．殺菌滅藻 電磁場在工作時產(chǎn)生電子流使細菌、藻類賴以生存的環(huán)境被破壞，并且溶解氧在電磁場和超聲波的作用下形成一些如O3、H2O2等對細菌、藻類具極強殺傷力的物質(zhì)，起到殺菌滅藻的作用。 其一，地球上的生物一般只適應(yīng)地區(qū)表面的電場強度（130V/m），該處理器改變電場強度，改變或影響細菌的生理代謝，如基因表達程序、酶活性等，***后導(dǎo)致細菌死亡。 其二，細胞膜有許多對外聯(lián)系的離子通道，離子通道的調(diào)節(jié)直接影響細胞的功能和生命。處理器產(chǎn)生的外電場破壞了細胞膜上的離子通道，改變了調(diào)節(jié)細胞功能的內(nèi)控電流，影響細菌的生命。同時形成強電場產(chǎn)生的高速運動的電子將細胞致死，達到殺菌的目的。 其三，電場處理水過程中，溶解氧得到活化，超氧陰離子自由基、羥基自由基、過氧化氫、單線態(tài)氧等活性氧?；钚匝鯇ι餀C體產(chǎn)生作用，造成有機體衰老，直至死亡。

適用范圍

1. 主要適用于循環(huán)水、自來水、地表水、地下水、海水、游泳池用水、熱水的水質(zhì)處理及控制。

2. 適用于石油、輪胎、橡膠、化工、鋼鐵、發(fā)電、中央空調(diào)、采暖、地源熱泵、及其它工礦企業(yè)的循環(huán)水、源水及污水處理等。

技術(shù)參數(shù)
1. 處理效果
緩蝕率：≤0.092mm/a，管道的銹蝕速度降低至原來的1/10；
阻垢、除垢率：≥95%；
殺菌率：≥95%；
滅藻率：≥95%；
過濾精度：可根據(jù)用戶需求選擇。 
2. 進水水質(zhì) 總硬度（以CaCO3計）：≤800mg/L；
水溫：≤50℃（特殊情況可定制）；
工作壓力：≤1.6Mpa
工作溫度：0℃~+95℃
工作環(huán)境溫度：0℃~+50℃
相對濕度：<95% 3.="">60000小時 設(shè)計壽命：20年 工作電壓：220V±10%/50Hz 絕緣電壓：5000V

安裝注意事項
1. 本設(shè)備與系統(tǒng)管路安裝完畢，調(diào)試合格后，接通設(shè)備主體配電箱上的電源（交流220V/50Hz），配電箱指示燈亮，設(shè)備正常運行。
2. 保持控制器外殼干燥。
3. 設(shè)備可根據(jù)現(xiàn)場具體情況，選擇水平或垂直安裝。
4. 設(shè)備之間凈距離不小于1500mm；設(shè)備與墻體凈距離不小于1000mm；設(shè)備與四周應(yīng)留出不小于500mm的維修空間。
5. 使用本設(shè)備處理過的水應(yīng)立即進入受熱設(shè)備或循環(huán)設(shè)備，中間不宜設(shè)停存設(shè)備。
6. 設(shè)備進出口管道上，應(yīng)以靠近管口處設(shè)置管道支架；直接與容器管口相連接的大于或等于DN150的閥門下面宜設(shè)置支架7. 重要部位可采用旁通式安裝，以便在不停機狀態(tài)下檢修設(shè)備。
安裝
①.設(shè)備的安裝位置離冷卻設(shè)備越近，處理效果越佳；但離墻面、主體設(shè)備的距離宜大于400mm。
②.***好為旁通式安裝，以滿足在不停機狀態(tài)下檢修設(shè)備及沖洗濾體的需要。